フォトレジストのオゾン灰化の温度効果と濃度効果

GARDNER W L; BADDORF A P; HOLBER W M

文献

J-GLOBAL ID：200902163285129239 整理番号：97A0698073

フォトレジストのオゾン灰化の温度効果と濃度効果

Temperature and concentration effects on ozone ashing of photoresist.

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資料名：
巻： 15 号： 3 Pt 2 ページ： 1409-1412 発行年： 1997年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

フォトレジスト塗布試料を大気圧で4sl/minの流速のオゾン...

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固体デバイス製造技術一般

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