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J-GLOBAL ID：200902163291634719   整理番号：01A0448830

フェム秒、ナノ秒およびマイクロ秒のパルスレーザによるAlNセラミックの選択性アブレーション

Selective ablation of AlN ceramic using femtosecond, nanosecond, and microsecond pulsed laser.

著者 (3件)： HIRAYAMA Y (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  YABE H (Keio Univ., Yokohama, JPN) ,  OBARA M (Keio Univ., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 89  号： 5  ページ： 2943-2949  発行年： 2001年03月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 横方向励起雰囲気(TEA)の炭酸ガスレーザ、KrFエキシマレ...

シソーラス用語： *窒化アルミニウム ,...

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分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (8件)： 秒 ,  ナノ秒 ,  マイクロ秒 ,  パルスレーザ ,  AlN ,  セラミック ,  選択性 ,  アブレーション