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J-GLOBAL ID:200902163517629403   整理番号:96A1023786

フェニルカルビノールの酸触媒脱水素反応による負のレジスト 化学構造とレジスト感度の相関性

Negative Resists Using Acid-Catalyzed Dehydration of Phenylcarbinols: Correlation between Chemical Structure and Resist Sensitivity.
著者 (4件):
資料名:
巻:号: 10  ページ: 2433-2438  発行年: 1996年10月 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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一連のフェニルカルビノールのレジスト特性を比較した。不溶化反...
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分類 (4件):
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均一系触媒反応  ,  酸化,還元  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  高分子固体の物理的性質 
物質索引 (12件):
物質索引
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