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J-GLOBAL ID：200902164208761743   整理番号：01A0116866

193nmリソグラフィーにおけるプラズマエッチング抵抗性向上用の新規多重脂環式重合体

Novel multi-alicyclic polymers for enhancing plasma etch resistance in 193 nm lithography.

著者 (3件)： LEE J-H (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR) ,  AHN K-D (Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR) ,  CHO I (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 42  号： 4  ページ： 1757-1761  発行年： 2001年02月 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テトラシクロ[4.4.0.1^2,5.1...

シソーラス用語： *フォトレジスト ,...

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分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (2件)： テトラシクロ[6.2.1.1^3,6.0^2,7]ドデカ-4-エン-9-カルボン酸tert-ブチル ,  酢酸テトラシクロ[6.2.1.1^3,6.0^2,7]ドデカ-4-エン-9-イル

タイトルに関連する用語 (6件)： リソグラフィー ,  プラズマエッチング ,  抵抗性 ,  多重 ,  脂環 ,  重合体