誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜電気特性

文献

J-GLOBAL ID：200902164677219976 整理番号：97A1030319

Electrical properties of very thin Al203 films prepared by magnetron sputtering enhanced with an inductively coupled rf plasma.

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資料名：
巻： 21 ページ： 313 発行年： 1997年10月
JST資料番号： Y0056A ISSN： 1340-8100 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

引用文献 (1件)：

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