低温Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>膜に対する窒素プラズマアニーリング

ALERS G B; FLEMING R M; WONG Y H; DENNIS B; PINCZUK A; REDINBO G; URDAHL R; ONG E; HASAN Z

文献

J-GLOBAL ID：200902165459818430 整理番号：98A0368681

低温Ta₂O₅膜に対する窒素プラズマアニーリング

Nitrogen plasma annealing for low temperature Ta₂O₅ films.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=98A0368681&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0368681&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

著者 (9件)： , , , , , , , ,
資料名：
巻： 72 号： 11 ページ： 1308-1310 発行年： 1998年03月16日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

酸化タンタル膜を酸素/窒素プラズマに曝すと漏れ電流と電荷捕獲...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=98A0368681&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

酸化物薄膜

, , ,

前のページに戻る

低温Ta2O5膜に対する窒素プラズマアニーリング

低温Ta₂O₅膜に対する窒素プラズマアニーリング