Cu(I)およびCu(II)前駆物質系を用いる銅の化学蒸着に対するヘキサフルオロアセチルアセトン添加の影響

AWAYA N; OHNO K; ARITA Y

文献

J-GLOBAL ID：200902165860626102 整理番号：95A0906359

Cu(I)およびCu(II)前駆物質系を用いる銅の化学蒸着に対するヘキサフルオロアセチルアセトン添加の影響

The Effect of Adding Hexafluoroacetylacetone on Chemical Vapor Deposition of Copper Using Cu(I) and Cu(II) Precursor Systems.

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巻： 142 号： 9 ページ： 3173-3179 発行年： 1995年09月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

β-ケトナート前駆物質による,Cu-CVDの特性に対するH(...

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金属薄膜 , 固体デバイス製造技術一般

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