文献

J-GLOBAL ID：200902166483736786   整理番号：94A0043532

Ion beam synthesis of buried and surface nickel silicides during a single implantation step.

著者 (9件)： WU M F (Peking Univ., Beijing, CHN) ,  DE WACHTER J (Univ. Leuven, Leuven, BEL) ,  PATTYN H (Univ. Leuven, Leuven, BEL) ,  VAN BAVEL A-M (Univ. Leuven, Leuven, BEL) ,  LANGOUCHE G (Univ. Leuven, Leuven, BEL) ,  VANHELLEMONT J (IMEC, Leuven, BEL) ,  BENDER H (IMEC, Leuven, BEL) ,  MAENHOUDT M (Univ. Leuven, Leuven, BEL) ,  BRUYNSERAEDE Y (Univ. Leuven, Leuven, BEL)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 73  ページ： 246-252  発行年： 1993年11月 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： STEP