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J-GLOBAL ID：200902166743358365   整理番号：01A0528055

TMAH溶液によりエッチングした単結晶シリコンの表面粗さ

Surface roughness of single-crystal silicon etched by TMAH solution.

著者 (4件)： SHIKIDA M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  MASUDA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  UCHIKAWA D (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SATO K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： A90  号： 3  ページ： 223-231  発行年： 2001年05月20日 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)溶液は,新しいタイ...

シソーラス用語： 単結晶 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： テトラメチルアミニウム

タイトルに関連する用語 (5件)： TMAH ,  溶液 ,  エッチング ,  単結晶シリコン ,  表面粗さ