文献

J-GLOBAL ID：200902166785798543   整理番号：93A0483027

Atomic hydrogen chemisorption on Si(100)(2×1) studied by FI-STM.

著者 (5件)： WANG X-D (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  LU H (Lab. Surface Physics, Academia Sinica, Beijing, CHN) ,  HASHIZUME T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  PICKERING H W (Pennsylvania State Univ., PA, USA) ,  SAKURAI T (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 67  ページ： 266-274  発行年： 1993年04月 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： Si ,  STM