文献

J-GLOBAL ID：200902166932658051   整理番号：93A0890154

Simulating Diffusion Processes upon Thermal Annealing of Silicon under Oxidation Conditions.

著者 (4件)： BURENKOV A F (Byelorussian State Univ., Minsk, SUN) ,  KORZYUK V I (Byelorussian State Univ., Minsk, SUN) ,  MOZOLEVSKII I E (Byelorussian State Univ., Minsk, SUN) ,  CHEB E S (Byelorussian State Univ., Minsk, SUN)
資料名： Physics, Chemistry and Mechanics of Surfaces  (Physics, Chemistry and Mechanics of Surfaces)
巻： 8  号： 5  ページ： 741-745  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： D0591C  ISSN： 0734-1520  CODEN： PCMSER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)