文献

J-GLOBAL ID：200902166991367281   整理番号：94A0380465

Some Oxide Films Deposited by Reactive Low Voltage Plasma Assisted Evaporation.

著者 (5件)： LIU X (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  WANG B (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  WANG G (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  GU P (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  TANG J (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 2000  ページ： 133-139  発行年： 1993年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)