低温の純粋アルゴン中でのエピタキシャルTl2Ba2CaCu2O8薄膜の形成

YAN S L; FANG L; SONG Q X; YAN J; ZHU Y P; CHEN J H; ZHANG S B

文献

J-GLOBAL ID：200902167221541700 整理番号：93A0870901

低温の純粋アルゴン中でのエピタキシャルTl₂Ba₂CaCu₂O₈薄膜の形成

Formation of epitaxial Tl₂Ba₂CaCu₂O₈ thin films at low temperature in pure argon.

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資料名：
巻： 63 号： 13 ページ： 1845-1847 発行年： 1993年09月27日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

LaAlO₃(001)基板上に鏡面状標...

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酸化物系超伝導体の物性 , 酸化物薄膜

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