反応性スパッタリングによるRuO<sub>x</sub>薄膜の特性に及ぼす過剰酸素の影響

LEE J-G; KIM Y T; MIN S-K; CHOH S H

文献

J-GLOBAL ID：200902167756896230 整理番号：95A0549810

反応性スパッタリングによるRuO_x薄膜の特性に及ぼす過剰酸素の影響

Effects of excess oxygen on the properties of reactively sputtered RuO_x thin films.

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巻： 77 号： 10 ページ： 5473-5475 発行年： 1995年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

強誘電性薄膜コンデンサの下部電極用として導電性RuO<sub...

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酸化物薄膜

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反応性スパッタリングによるRuOx薄膜の特性に及ぼす過剰酸素の影響

反応性スパッタリングによるRuO_x薄膜の特性に及ぼす過剰酸素の影響