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J-GLOBAL ID：200902168351602929   整理番号：00A0132698

触媒および非触媒自己制限表面反応を使用したSiO₂の原子層堆積

Atomic layer deposition of SiO₂ using catalyzed and uncatalyzed self-limiting surface reactions.

著者 (4件)： KLAUS J W (Univ. Colorado, CO, USA) ,  SNEH O (Univ. Colorado, CO, USA) ,  OTT A W (Univ. Colorado, CO, USA) ,  GEORGE S M (Univ. Colorado, CO, USA)
資料名： Surface Review and Letters  (Surface Review and Letters)
巻： 6  号： 3/4  ページ： 435-448  発行年： 1999年06月 
JST資料番号： W1109A  ISSN： 0218-625X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： シンガポール (SGP)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 触媒 ,  自己 ,  制限 ,  表面反応 ,  SiO2 ,  原子層堆積