液浸熱分解過程によるNbドープSrTiO<sub>3</sub>(100)基板へのエピタキシャルPb(Zr,Ti)O<sub>3</sub>薄膜の堆積

文献

J-GLOBAL ID：200902168495299341 整理番号：97A0898043

液浸熱分解過程によるNbドープSrTiO₃(100)基板へのエピタキシャルPb(Zr,Ti)O₃薄膜の堆積

Preparation of Epitaxial Pb(Zr, Ti)O₃ Thin Films on Nb-Doped SrTiO₃ (100) Substrates by Dipping-Pyrolysis Process.

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資料名：
巻： 36 号： 8 ページ： 5221-5225 発行年： 1997年08月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

金属ナフタレン酸を始物質に使い,Pb(Zr,Ti)O<sub...

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酸化物薄膜 , 強誘電体,反強誘電体,強弾性

引用文献 (16件)：

1) C. M. Foster, G.-R. Bai, Z. Li, R. Jammy, L. A. Wills and R. Hiskes: Epitaxial Oxide Thin Films II, eds. J. S. Speck, D. K. Fork, R. M. Wolf and T. Shiosaki (Materials Research Society, Pittsburgh, 1996) Vol. 401, p. 139.
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