文献
J-GLOBAL ID：200902168539441426   整理番号：01A0151821

非線形プロセスによる高分子膜中のパターン形成

Pattern Formation in Polymer Films by Non-Linear Processes.
著者 (6件)：
KARTHAUS O

KARTHAUS O について

(Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)

Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN について

, 
MARUYAMA N

MARUYAMA N について

(Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)

Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN について

, 
YABU H

YABU H について

(Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)

Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN について

, 
KOITO T

KOITO T について

(Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)

Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN について

, 
AKAGI K

AKAGI K について

(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)

Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN について

, 
SHIMOMURA M

SHIMOMURA M について

(Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)

Res. Inst. Electronic Sci. Hokkaido Univ., Sapporo, JPN について


資料名：
Macromolecular Symposia  (Macromolecular Symposia)

Macromolecular Symposia について


巻： 160  ページ： 137-142  発行年： 2000年10月 
JST資料番号： D0318C  ISSN： 1022-1360  CODEN： MSYMEC  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
水平の基板上に流延した高分子希薄溶液から,単に溶媒を蒸発させ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
*高分子薄膜

高分子薄膜 について

,...
   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0151821&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0318C") }}
分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子固体の構造と形態学 
(CG02022M)

高分子固体の構造と形態学 について

,  有機化合物の薄膜 
(BK14070L)

有機化合物の薄膜 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
非線形プロセス

非線形プロセス について

, 
高分子膜

高分子膜 について

, 
パターン形成

パターン形成 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM