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J-GLOBAL ID：200902169152991564   整理番号：95A0554860

ポリフェニルシルセスキオキサンの反射防止膜としての応用検討

Application of Polysilsesquioxane to Anti-reflection Coatings.

著者 (4件)： 南伸太朗 (三菱電機) ,  足立悦志 (三菱電機) ,  西村浩之 (三菱電機) ,  足達広士 (三菱電機)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 42nd  号： Pt 2  ページ： 597  発行年： 1995年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (3件)： ポリフェニルシルセスキオキサン ,  反射防止膜 ,  応用