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J-GLOBAL ID：200902169252169926   整理番号：96A0671685

高周波マグネトロンスパッタリングにより蒸着したZnO薄膜の微細構造発展と優先配向の変化

Microstructural evolution and preferred orientation change of radio-frequency-magnetron sputtered ZnO thin films.

著者 (6件)： LEE Y E (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  LEE J B (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Y J (Kyonggi Univ., Suwon, KOR) ,  YANG H K (Korea Electronic Technol. Inst., Kyung Gi-Do, KOR) ,  PARK J C (Korea Electronic Technol. Inst., Kyung Gi-Do, KOR) ,  KIM H J (Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 14  号： 3 Pt 2  ページ： 1943-1948  発行年： 1996年05月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記方法で蒸着したZnO薄膜の結晶方位と微細構造の蒸着パラメ...

シソーラス用語： 酸化亜鉛 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波マグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  ZnO薄膜 ,  微細構造 ,  発展 ,  優先配向