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J-GLOBAL ID：200902169932912429   整理番号：03A0055931

対向ターゲットスパッタリングにより堆積したTiO₂膜の性質に及ぼす作用ガス圧及びAr対O₂比の影響

Dependence of working gas pressure and ratio of Ar to O₂ on properties of TiO₂ films deposited by facing targets sputtering.

著者 (2件)： TAKAHASHI T (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  NAKABAYASHI H (Toyama Univ., Toyama, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 420/421  ページ： 433-437  発行年： 2002年12月02日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiO₂膜をAr/O<sub>2</s...

シソーラス用語： 薄膜成長 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (8件)： ターゲット ,  スパッタリング ,  堆積 ,  TiO2 ,  性質 ,  ガス圧 ,  Ar ,  O2