文献

J-GLOBAL ID：200902170493372623   整理番号：97A0138343

フッ素添加がPECVD-SiO₂薄膜の構造および光学特性に及ぼす影響

Effects of fluorine addition on the structure and optical properties of SiO₂ films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition.

著者 (3件)： 石井啓介 (早稲田大 理工) ,  高見明宏 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工)
資料名： 電気学会誘電・絶縁材料研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： DEI-96  号： 132-145  ページ： 109-117  発行年： 1996年12月10日 
JST資料番号： Z0908B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ふっ素を添加した場合,エッチレートは減少し,∠SiOSiの結...

シソーラス用語： 二酸化ケイ素 ,...
準シソーラス用語： テトラエトキシシラン ,...

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分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (27件)：

• 水野. 月刊 Semiconductor World. 1994, 2
• ANAND, M. B. 1994 Proceedings of the 11th International VLSI Multilevel Interconnection Conference. 1994, 15
• HOMMA, T. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 3599
• HOMMA, T. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 687
• NOGUCHI, K. Appl. Phys. Lett. 1984, 44, 491

タイトルに関連する用語 (5件)： フッ素添加 ,  PECVD ,  SiO2 ,  薄膜 ,  光学特性