文献

J-GLOBAL ID：200902170934707480   整理番号：99A0780037

有機金属化学蒸着によるルテニウム薄膜の堆積と特性付け

Deposition and Characterization of Ru Thin Films Prepared by Metallorganic Chemical Vapor Deposition.

著者 (5件)： KANG S Y (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  CHOI K H (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  LEE S K (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  HWANG C S (Seoul National Univ., Seoul, KOR) ,  KIM H J (Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 99  号： 230(ED99 113-144)  ページ： 139-144  発行年： 1999年07月23日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ルテニウムの薄膜を300°C~400°CでRu(C<sub>5<...

シソーラス用語： *ルテニウム ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0780037&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0532B") }}

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 有機金属化学蒸着 ,  ルテニウム ,  薄膜 ,  堆積 ,  特性付け