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J-GLOBAL ID：200902171123140584   整理番号：93A0631366

Amorphous Silicon Carbide Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition.

著者 (3件)： TONG L (Case Western Reserve Univ., Ohio) ,  MEHREGANY M (Case Western Reserve Univ., Ohio) ,  TANG W C (Ford Motor Co., Michigan)
資料名： Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻： 6th  ページ： 242-247  発行年： 1993年 
JST資料番号： W0377A  ISSN： 1084-6999  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)