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J-GLOBAL ID：200902171242860145   整理番号：93A0649116

多孔質Si薄膜のN₂パルスレーザによるアブレーション現象 (I)

Laser ablation phenomena on porous Si films by N₂ pulse laser. (I).

著者 (4件)： 岩田拡也 (福井大 工) ,  橋本明弘 (福井大 工) ,  大久保貢 (福井大 工) ,  山本あき勇 (福井大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 40th  号： Pt 2  ページ： 661  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： 多孔質 ,  Si薄膜 ,  N2 ,  パルスレーザ ,  アブレーション ,  現象