文献

J-GLOBAL ID：200902171349363861   整理番号：97A0902798

深X線リソグラフィーによるフォトニック結晶の作製

Fabrication of photonic crystals by deep x-ray lithography.

著者 (9件)： FEIERTAG G (Inst. Microtechnol. Mainz GmbH, Mainz, DEU) ,  LEHR H (Inst. Microtechnol. Mainz GmbH, Mainz, DEU) ,  SCHMIDT M (Inst. Microtechnol. Mainz GmbH, Mainz, DEU) ,  SIGALAS M M (Iowa State Univ., Iowa) ,  SOUKOULIS C M (Iowa State Univ., Iowa) ,  KIRIAKIDIS G (Foundation for Res. and Technol. Hellas, Crete, GRC) ,  PEDERSEN T (Foundation for Res. and Technol. Hellas, Crete, GRC) ,  KUHL J (Max-Planck-Inst. Festkoerperforsch., Stuttgart, DEU) ,  KOENIG W (Max-Planck-Inst. Festkoerperforsch., Stuttgart, DEU)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 71  号： 11  ページ： 1441-1443  発行年： 1997年09月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 三次元フォトニック結晶を作製するため,新しい微視的作製法を開...

シソーラス用語： 量子光学 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0902798&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

分類 (1件)： 量子光学一般  (BD04010X)

タイトルに関連する用語 (3件)： X線リソグラフィー ,  フォトニック結晶 ,  作製