シリコンからのポリスチレン粒子のKrF乾式レーザクリーニングにおける除去とアブレーション

KUDRYASHOV S I; ALLEN S D

文献

J-GLOBAL ID：200902171922385450 整理番号：02A0901746

シリコンからのポリスチレン粒子のKrF乾式レーザクリーニングにおける除去とアブレーション

Removal versus ablation in KrF dry laser cleaning of polystyrene particles from silicon.

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巻： 92 号： 9 ページ： 5159-5162 発行年： 2002年11月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Si基板上のポリスチレン(PS)粒子(0.2,0.5,1.1...

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固体デバイス製造技術一般

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