窒化炭素薄膜の構造と結合特性に及ぼすパルスレーザ蒸着中の低エネルギー窒素イオンビームの照射効果

ZHAO J P; CHEN Z Y; YANO T; OOIE T; YONEDA M

文献

J-GLOBAL ID：200902172270395420 整理番号：01A0350961

窒化炭素薄膜の構造と結合特性に及ぼすパルスレーザ蒸着中の低エネルギー窒素イオンビームの照射効果

Irradiation effect of low energy nitrogen-ion beam during pulsed laser deposition process on the structural and bonding properties of carbon-nitride thin films.

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巻： 89 号： 3 ページ： 1580-1587 発行年： 2001年02月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

低エネルギー窒素イオンビーム照射下で黒鉛のパルスレーザアブレ...

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その他の無機化合物の薄膜 , その他の物質の放射線による構造と物性の変化

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