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J-GLOBAL ID：200902172747029501   整理番号：96A0481519

25nm分解能をもつ転写リソグラフィー

Imprint Lithography with 25-Nanometer Resolution.

著者 (3件)： CHOU S Y (Univ. Minnesota, MN, USA) ,  KRAUSS P R (Univ. Minnesota, MN, USA) ,  RENSTROM P J (Univ. Minnesota, MN, USA)
資料名： Science  (Science)
巻： 272  号： 5258  ページ： 85-87  発行年： 1996年04月05日 
JST資料番号： E0078A  ISSN： 0036-8075  CODEN： SCIEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 分解能25nmでしかも平坦な垂直側壁をつくる,高い処理能力を...

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： PMMA

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 分解能 ,  転写 ,  リソグラフィー