Si基板上へのTiO<sub>2</sub>:Nアナターゼ薄膜の有機金属化学蒸着

LEE D H; CHO Y S; YI W I; KIM T S; LEE J K; JUNG H J

文献

J-GLOBAL ID：200902173331615467 整理番号：95A0252702

Si基板上へのTiO₂:Nアナターゼ薄膜の有機金属化学蒸着

Metalorganic chemical vapor deposition of TiO₂:N anatase thin film on Si substrate.

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資料名：
巻： 66 号： 7 ページ： 815-816 発行年： 1995年02月13日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

MOCVDで420°Cのp型Si基板にNをドープしたTiO<s...

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酸化物薄膜

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Si基板上へのTiO2:Nアナターゼ薄膜の有機金属化学蒸着

Si基板上へのTiO₂:Nアナターゼ薄膜の有機金属化学蒸着