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J-GLOBAL ID：200902173710757163   整理番号：98A0791671

大気圧プラズマジェットを用いた材料のエッチング

Etching materials with an atmospheric-pressure plasma jet.

著者 (7件)： JEONG J Y (Univ. California, CA, USA) ,  BABAYAN S E (Univ. California, CA, USA) ,  TU V J (Univ. California, CA, USA) ,  PARK J (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  HENINS I (Univ. California, CA, USA) ,  HICKS R F (Univ. California, CA, USA) ,  SELWYN G S (Los Alamos National Lab., NM, USA)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 7  号： 3  ページ： 282-285  発行年： 1998年08月 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大気圧中で100~275°Cの材料をエッチングするために,プラ...

シソーラス用語： プラズマジェット ,...
準シソーラス用語： 四ふっ化炭素

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分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (2件)： 大気圧プラズマジェット ,  エッチング