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J-GLOBAL ID:200902173735526298   整理番号:98A1005066

光酸及び塩基発生剤 重合体感光系の開発における見通しとその用途

Photoacid and Photobase Generators: Prospects and Their Use in the Development of Polymeric Photosensitive Systems.
著者 (2件):
資料名:
巻: 71  号: 11  ページ: 2483-2507  発行年: 1998年11月 
JST資料番号: G0450A  ISSN: 0009-2673  CODEN: BCSJA8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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光酸発生剤の合成法と光分解の機構的研究を評価した。主に光開始...
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その他の高分子の反応 
引用文献 (134件):
  • 1) J. V. Crivello, J. H. W. Lam, and C. N. Volante, J. Radiat. Curing, 2 July, (1977).
  • 2) J. V. Crivello and J. H. W. Lam, Macromolecules, 10, 1307 (1977).
  • 3) a) S. P. Pappas, B. C. Pappas, and L. R. Gatechair, J. Polym. Sci.: Polym. Chem. Ed., 22, 69 (1984);
  •  b) J. P. Fouassier and J. F. Rabek, “Radiation Curing in Polymer Science and Technology,” Elsevier Science Publishers, London (1993), Vol. II, p. 435.
  • 4) J. V. Crivello and J. H. Lam, J. Polym. Sci.: Polym. Chem. Ed., 16, 2441 (1978).
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