研究者
J-GLOBAL ID:200901017506006030
更新日: 2024年02月14日
白井 正充
シライ マサミツ | Shirai Masamitsu
所属機関・部署:
大阪府立大学 大学院工学研究科 物質・化学系専攻
大阪府立大学 大学院工学研究科 物質・化学系専攻 について
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職名:
教授
研究分野 (3件):
高分子材料
, 有機機能材料
, 高分子化学
研究キーワード (2件):
高分子合成
, Polymer Synthesis
競争的資金等の研究課題 (5件):
光酸発生剤、光塩基発生剤の開発
高分子の光分解
光反応性高分子の合成とその応用
Photodegradation of polymers
Synthesis of Photoreactive polymers and its applications.
MISC (144件):
YD Shin, A Kawaue, H Okamura, M Shirai. Novel thermally degradable diepoxy crosslinkers containing sulfonate ester groups for photo-crosslinking. POLYMER DEGRADATION AND STABILITY. 2004. 86. 1. 153-158
YD Shin, A Kawaue, H Okamura, M Shirai. Thermally crosslinkable-decrosslinkable system using diepoxy crosslinkers containing sulfonate ester moiety. REACTIVE & FUNCTIONAL POLYMERS. 2004. 61. 2. 293-302
Effects of Protecting Group on Resist Characteristics of Acryl Polymers for 193 nm Lithography. J. Photopolym. Sci. Technol. 2004. 17, 483-488
Photo-Crosslinking of Poly(glycidyl methacrylate) Using Di-functional Photobase Generators}. J. Photopolym. Sci. Technol. &. 2004. 17, 11-14
Acid Components in Outgassing from F2 Resists: A Study Using In-Situ QCM TechniqueÛ. J. Photopolym. Sci. Technol. 2004. 27, 645-650
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書籍 (10件):
高分子の架橋と分解ー環境保全を目指してー
シー・エム・シー 2004
“高分子の長寿命化技術”
シーエムシー 2001
高分子の長寿命化技術(分担執筆)
シーエムシー編 2000
Photoacid and Photobase Generation in Photoresists(分担執筆)
Trends in Photochemistry and Photobiology 1999
Photoacid Generating Polymers for Microlithography
Recent Research Development in Photobiology 1998
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学歴 (4件):
- 1972 大阪府立大学 工学研究科 応用化学
- 1972 大阪府立大学
- 1970 大阪府立大学 工学部 応用化学
- 1970 大阪府立大学
学位 (1件):
工学博士 (大阪府立大学)
委員歴 (2件):
2002 - 高分子学会 関西支部理事
1999 - ラドテック研究会 幹事
受賞 (3件):
2002 - Photopolymer Science and Technology Award
2001 - マテリアルライフ学会 論文賞
2001 - Material Life Society Paper Award
所属学会 (8件):
マテリアルライフ学会
, 光化学協会
, The International Society for Optical Engineering
, ラドテック研究会
, 近畿化学協会
, American Chemical Society
, 高分子学会
, 日本化学会
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