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J-GLOBAL ID：200902174074904386   整理番号：98A0833215

表面分析技術の組み合わせによる高温におけるZr-Si/W(100)表面の研究

Study on Zr-Si/W(100) Surface at High Temperatures by Combined Surface Analysis Techniques.

著者 (3件)： KAWANO T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KIMURA Y (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SHIMIZU R (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37  号： 8  ページ： 4561-4562  発行年： 1998年08月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記表面の電子放出速度を,Auger電子分光,イオン散乱分光...

シソーラス用語： *表面構造 ,...

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分類 (2件)： 金属の表面構造  (BK15020P) ,  熱電子放出,電界放出  (BM09020S)

引用文献 (10件)：

• 1) S. C. Lee, Y. Irokawa, M. Inoue and R. Shimizu: Surf. Sci. 330 (1955) 289.
• 2) L. R. Danielson and L. W. Swanson: Surf. Sci. 88 (1979) 14.
• 3) H. Shimoyama: private communication.
• 4) S. Yamaguchi, T. Ohye and H. Shimoyama: Ext. Abstr. (43rd Spring Meet. 1996); Japan Society of Applied Physics and Related Societies, 28p-E-16 [in Japanese].
• 5) T. Naganuma, Y. Yamakawa, T. Ohye and H. Shimoyama: Proc. 54th Annu. Meet. Japanese Society of Electron Microscopy, 1998, Vol. 33, Suppl. 1, P25.

タイトルに関連する用語 (5件)： 表面分析 ,  組み合わせ ,  Zr ,  Si ,  研究