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J-GLOBAL ID：200902174602864863   整理番号：01A1057818

熱酸化したSi基板上に堆積させたPt/Ti膜積層における白金の小丘

Platinum Hillocks in Pt/Ti Film Stacks Deposited on Thermally Oxidized Si Substrate.

著者 (4件)： KWEON S Y (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR) ,  CHOI S K (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR) ,  YEOM S J (HYUNDAI Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR) ,  ROH J S (HYUNDAI Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40  号： 10  ページ： 5850-5855  発行年： 2001年10月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 強誘電体素子の電極材であるPt/Ti電極の堆積後の熱サイクル...

シソーラス用語： 熱酸化 ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  LCR部品  (NA05030D)

引用文献 (14件)：

• 1) J. F. Scott and C. A. Paz de Arauzo: Science 246 (1989) 1400.
• 2) C. A. Paz de Arauzo, J. D. Cuchiaro, L. D. McMillan, M. C. Scott and J. F. Scott: Nature 374 (1995) 627.
• 3) K. J. Cho, J. K. Lee, H. J. Jung and J. W. Park: J. Vac. Sci. & Technol. A <B>16</B> (1998) 1258.
• 4) G. Schindler, W. Hartner, V. Joshi, N. Solayappan, G. Derbenwick and C. Mazure: Integrat. Ferroelectr. 17 (1997) 421.
• 5) H. Takasu: Integrat. Ferroelectr. 14 (1997) 1.

タイトルに関連する用語 (7件)： 熱酸化 ,  Si基板 ,  堆積 ,  Pt ,  Ti膜 ,  白金 ,  丘