テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサンで作製した低k有機シリケート膜

LUBGUBAN J JR; RAJAGOPALAN T; MEHTA N; LAHLOUH B; SIMON S L; GANGOPADHYAY S

文献

J-GLOBAL ID：200902174740696939 整理番号：02A0647568

テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサンで作製した低k有機シリケート膜

Low-k organosilicate films prepared by tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane.

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巻： 92 号： 2 ページ： 1033-1038 発行年： 2002年07月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

プラズマCVDにより,圧力と温度を変えて,誘電率が2.5~2...

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有機化合物の薄膜 , 誘電体一般 , 有機化合物の赤外スペクトル及びRaman散乱,Ramanスペクトル

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