陽極酸化レジスト膜を用いたナノメータ電極の製造法と10GHz弾性表面波素子への応用

YAMANOUCHI K; MEGURO T; WAGATSUMA Y; ODAGAWA H; YAMAMOTO K

文献

J-GLOBAL ID：200902176817641965 整理番号：94A0624359

陽極酸化レジスト膜を用いたナノメータ電極の製造法と10GHz弾性表面波素子への応用

Nanometre electrode fabrication technology using anodic oxidation resist films and applications to 10GHz surface acoustic wave devices.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=94A0624359&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0624359&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=A0887A") }}

著者 (5件)： , , , ,
資料名：
巻： 30 号： 12 ページ： 1010-1011 発行年： 1994年06月09日
JST資料番号： A0887A ISSN： 0013-5194 CODEN： ELLEAK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

60nm以下の電極幅に対する新しいリソグラフィー技術を提案し...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0624359&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=A0887A") }}

固体デバイス製造技術一般 , 弾性表面波デバイス

, , , , ,

前のページに戻る