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J-GLOBAL ID：200902176922470750   整理番号：01A0546816

Coベースの長手薄膜媒体の粒子サイズとその分布を減少させる新しいスパッタリング過程 新しいシード層と高K_u^Grain材料

Novel Sputtering Process to Reduce the Grain Size and Its Distribution in Co-Based Longitudinal Thin Film Media. New Seedlayer and High K_u^Grain Material.

著者 (4件)： TAKAHASHI M (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHOJI H ,  DJAYAPRAWIRA D D ,  YOSHIMURA S
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 36  号： 5,Pt.1  ページ： 2315-2320  発行年： 2000年09月 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 粒子サイズとその分布を減少させる二つの技術を導入した。第一は...

シソーラス用語： 磁気記録材料 ,...
準シソーラス用語： 長手磁気記録 ,...

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分類 (1件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (8件)： CO ,  薄膜 ,  媒体 ,  粒子サイズ ,  分布 ,  スパッタリング ,  過程 ,  シード層