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J-GLOBAL ID：200902177507146073   整理番号：98A0672168

X線によるセラミック膜の応力こう配の解析

Analysis of Stress Gradient in Ceramic Film by X-ray Method.

著者 (3件)： SUZUKI K (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  TANAKA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SAKAIDA Y (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： JSME International Journal. Series A. Solid Mechanics and Material Engineering (Japan Society of Mechanical Engineers)  (JSME International Journal. Series A. Solid Mechanics and Material Engineering (Japan Society of Mechanical Engineers))
巻： 41  号： 3  ページ： 416-421  発行年： 1998年07月 
JST資料番号： G0026B  ISSN： 1344-7912  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線侵入深さの深いセラミック材において,急激な応力勾配がある...

シソーラス用語： *セラミック被覆 ,...

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分類 (1件)： セラミック材料  (HC02040T)

引用文献 (15件)：

• CHEN, P. C. Residual Stress Analysis of a Muti-Layer Thin Film Structure by Destructive(Curvature) and Non-Destructive (X-ray) Method. Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 1989, 153, 363
• OSHIDA, Y. Nondestructive Low-Cycle Fatigue Characterization of Multi-Layer Thin Film Structure. J. Nondestr. Eval. 1989, 8, 4, 235
• EIGENMANN, B. X-ray Residual Stress Determination in Thin Chromium Coatings on Steel. Surface Eng. 1991, 7, 3, 221
• IDEMITSU, K. X-ray Measurement of Residual Stress Distribution in Later Heat Treated TiN Coated Caron Steels. Nondestr. Test Eval. 1992, 8, 9, 919
• DURAND, N. Origin of Residual Stress in a Textured Au Thin Film on a LiF Substrate. Appl. Surface Sci. 1994, 81, 191

タイトルに関連する用語 (4件)： X線 ,  セラミック膜 ,  応力こう配 ,  解析