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J-GLOBAL ID：200902177529665082   整理番号：01A0700122

表面電場を利用してマイクロ波反射光伝導率減衰法による湿式化学処理した後のSiウエハ表面の評価

Characterization of Si wafer Surfaces after Wet Chemical Treatment by the Microwave Reflectance Photconductivity Decay Method with Surface Electric Field.

著者 (6件)： TADA A (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  HIRANO M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  ICHIMURA M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  ARAI E (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  TAKAMATSU H (Kobe Steel, Ltd., Kobe, JPN) ,  SUMIE S (Kobe Steel, Ltd., Kobe, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40  号： 5A  ページ： 3069-3074  発行年： 2001年05月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 外部電極とSiウエハとの間にスペーサを介して電圧を印加して,...

シソーラス用語： *表面処理 ,...

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分類 (2件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (13件)：

• 1) T. M. Buck and F. S. McKim: J. Electrochem. Soc. 105 (1958) 709.
• 2) T. S. Horanyi, T. Pavelka and P. Tutto: Appl. Surf. Sci. 63 (1993) 306.
• 3) M. Schofthaler, R. Brendel, G. Langguth and J. H. Werner: Proc. 1st Conf. Photovoltaic Energy Conversion (IEEE, New York, 1994) p. 1509.
• 4) M. Ichimura, M. Hirano, N. Kato, E. Arai, H. Takamatsu and S. Sumie: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) L292.
• 5) M. Ichimura, M. Hirano, A. Tada, E. Arai, H. Takamatsu and S. Sumie: Mater. Sci. Eng. B 73 (2000) 230.

タイトルに関連する用語 (8件)： 電場 ,  マイクロ ,  波反射 ,  光伝導率 ,  減衰 ,  化学処理 ,  Siウエハ ,  評価