文献

J-GLOBAL ID：200902177894700415   整理番号：93A0648887

電子線描画装置におけるステージ連続移動マーク検出方式の開発

Mark detection method with stage continuous moving.

著者 (8件)： 南出宜徳 (日立) ,  依田晴夫 (日立) ,  川野雅道 (日立) ,  安藤宏純 (日立) ,  佐々木実 (日立) ,  水野一亥 (日立) ,  松岡玄也 (日立 中研) ,  安藤公明 (日立 中研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 40th  号： Pt 2  ページ： 553  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子線描画 ,  ステージ ,  マーク ,  開発