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J-GLOBAL ID:200902178708883285   整理番号:00A0882293

高誘電率/強誘電体ゲート絶縁膜の可能性

Prospects of high-dielectric and ferroelectric gate insulators.
著者 (1件):
資料名:
巻: 69  号:ページ: 1090-1094  発行年: 2000年09月10日 
JST資料番号: F0252A  ISSN: 0369-8009  CODEN: OYBSA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (2件):
分類
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トランジスタ  ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性 
引用文献 (13件):
  • 1) K. Aizawa and H. Ishiwara: Jpn. J. Appl. Phys. 33, 5178 (1994).
  • 2) M. Ono, M. Saito, T. Yoshitomi, C. Fiegna, T. Ohguro and H. Iwai: Int. Electron Devices Meet. Dig. Tech. Paper, p. 119 (1993).
  • 3) The Int. Technology Roadmap for Semiconductors 1999, ed. Int. SEMATECH.
  • 4) 岩井洋,大見俊一郎:応用物理 69, 4 (2000).
  • 5) J-P. Maria and A. Kingon: J. Mater. Res. 印刷中.
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タイトルに関連する用語 (4件):
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