Characterization of the silane surface reaction in the chemical vapor deposition of polysilicon in a cold wall, rapid thermal system.

文献

J-GLOBAL ID：200902178941194066 整理番号：93A0830872

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=93A0830872&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=93A0830872&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0761A") }}

著者 (3件)： , ,
資料名：
巻： 12th ページ： 34-40 発行年： 1993年
JST資料番号： E0761A 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

前のページに戻る