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J-GLOBAL ID：200902179440586122   整理番号：93A0710286

Agに対する標的温度に伴うスパッタリング収量の増加

Sputtering yield increase with target temperature for Ag.

著者 (2件)： BEHRISCH R (Max-Planck Inst. Plasmaphysik, Garching/Muenchen, DEU) ,  ECKSTEIN W (Max-Planck Inst. Plasmaphysik, Garching/Muenchen, DEU)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 82  号： 2  ページ： 255-258  発行年： 1993年07月 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標的温度が上昇すると表面結合エネルギー(I)が低下し,温度効...

シソーラス用語： イオン照射 ,...

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分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ag ,  標的 ,  スパッタリング ,  収量