レーザ表面走査および角度分解光散乱によるシリコン粒子の測定

HUFF H R; GOODALL R K; WILLIAMS E; WOO K-S; WARNER T; GILDERSLEEVE K; BULLIS W M; SCHEER B W; STOVER J

文献

J-GLOBAL ID：200902179971578710 整理番号：97A0265613

レーザ表面走査および角度分解光散乱によるシリコン粒子の測定

Measurement of Silicon Particles by Laser Surface Scanning and Angle-Resolved Light Scattering.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=97A0265613&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0265613&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0285A") }}

著者 (9件)：

HUFF H R

HUFF H R について

名寄せID(JGPN) 201650000311709674 ですべてを検索
「HUFF H R」ですべてを検索

(SEMATECH, Texas, USA)

SEMATECH, Texas, USA について

名寄せID(JGON) 201551000097263031 ですべてを検索
「SEMATECH, Texas, USA」ですべてを検索

GOODALL R K

GOODALL R K について

名寄せID(JGPN) 201550000131749379 ですべてを検索
「GOODALL R K」ですべてを検索

(SEMATECH, Texas, USA)

SEMATECH, Texas, USA について

名寄せID(JGON) 201551000097263031 ですべてを検索
「SEMATECH, Texas, USA」ですべてを検索

WILLIAMS E

WILLIAMS E について

名寄せID(JGPN) 200901100453332163 ですべてを検索
「WILLIAMS E」ですべてを検索

(SEMATECH, Texas, USA)

SEMATECH, Texas, USA について

名寄せID(JGON) 201551000097263031 ですべてを検索
「SEMATECH, Texas, USA」ですべてを検索

WOO K-S

WOO K-S について

名寄せID(JGPN) 200901100443223269 ですべてを検索
「WOO K-S」ですべてを検索

(Univ. Minnesota, Minnesota, USA)

Univ. Minnesota, Minnesota, USA について

名寄せID(JGON) 201551000097045107 ですべてを検索
「Univ. Minnesota, Minnesota, USA」ですべてを検索

WARNER T

WARNER T について

名寄せID(JGPN) 200901100386473520 ですべてを検索
「WARNER T」ですべてを検索

(Arizona State Univ., Arizona, USA)

Arizona State Univ., Arizona, USA について

名寄せID(JGON) 201551000097222955 ですべてを検索
「Arizona State Univ., Arizona, USA」ですべてを検索

GILDERSLEEVE K

GILDERSLEEVE K について

名寄せID(JGPN) 200901100337081420 ですべてを検索
「GILDERSLEEVE K」ですべてを検索

(Motorola-Mesa, Arizona, USA)

Motorola-Mesa, Arizona, USA について

名寄せID(JGON) 201551000056434743 ですべてを検索
「Motorola-Mesa, Arizona, USA」ですべてを検索

BULLIS W M

BULLIS W M について

名寄せID(JGPN) 200901100349035416 ですべてを検索
「BULLIS W M」ですべてを検索

(Semiconductor Equipment and Materials International, California, USA)

Semiconductor Equipment and Materials International, California, USA について

名寄せID(JGON) 201551000075201016 ですべてを検索
「Semiconductor Equipment and Materials International, California, USA」ですべてを検索

SCHEER B W

SCHEER B W について

名寄せID(JGPN) 201550000131912067 ですべてを検索
「SCHEER B W」ですべてを検索

(VLSI Standards, Inc., California, USA)

VLSI Standards, Inc., California, USA について

名寄せID(JGON) 201551000081006780 ですべてを検索
「VLSI Standards, Inc., California, USA」ですべてを検索

STOVER J

STOVER J について

名寄せID(JGPN) 200901100559196625 ですべてを検索
「STOVER J」ですべてを検索

(ADE Optical Systems, North Carolina, USA)

ADE Optical Systems, North Carolina, USA について

名寄せID(JGON) 201551000071521326 ですべてを検索
「ADE Optical Systems, North Carolina, USA」ですべてを検索

資料名：

Journal of the Electrochemical Society (Journal of the Electrochemical Society)

Journal of the Electrochemical Society について

JST資料番号 C0285A ですべてを検索
ISSN,ISBN,CODENですべてを検索
資料情報を見る

巻： 144 号： 1 ページ： 243-250 発行年： 1997年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

抄録/ポイント：

抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

SEMATECHの粒子計数/表面微小粗さ専門委員会で進行中の...

シソーラス用語：

シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

LSI【IC】

LSI【IC】について

「LSI【IC】」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0265613&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0285A") }}

分類 (1件)：

分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです

固体デバイス計測・試験・信頼性

(NC03040G)

固体デバイス計測・試験・信頼性について

分類コード NC03040G で文献を検索
分類コード4桁 NC03 で文献を検索

タイトルに関連する用語 (5件)：

タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

レーザ

レーザについて

「レーザ」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

走査

走査について

「走査」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

分解

分解について

「分解」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

光散乱

光散乱について

「光散乱」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

シリコン

シリコンについて

「シリコン」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る

前のページに戻る