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J-GLOBAL ID：200902180135334464   整理番号：95A0117407

二液相界面における金薄膜の製造

Preparation of Gold Films by Electrodeposition at the Interface between Two Liquid Phases.

著者 (2件)： 三井俊明 (秋田大 鉱山) ,  金児紘征 (秋田大 鉱山)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 45  号： 12  ページ： 1312-1313  発行年： 1994年12月 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電解質水溶液/有機液体の組合わせとして,塩化金(III)酸ナ...

シソーラス用語： 金 ,...
準シソーラス用語： 陰極還元 ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電気化学一般  (CB07010N)

引用文献 (5件)：

• 1) R. Tamamushi and H. Kaneko; Electrochim. Acta, 25, 391 (1980)
• 2) 阪原久, 金児紘征, 泰松斉; 表面技術, 43, 1059 (1992)
• 3) H. Kaneko, H. Taimatsu and H. Sakahara; Materials Transactions, JIM, 34, 732 (1993)
• 4) H. Kaneko, H. Taimatsu and T. Takahashi; Denki Kagaku, 61, 838 (1993)
• 5) 金児紘征, 泰松斉, 大月栄治; 伸銅技術研究会誌, 33, 175 (1994)

タイトルに関連する用語 (3件)： 二液 ,  相界面 ,  金薄膜