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J-GLOBAL ID：200902181431274813   整理番号：02A0207922

ポリイミドから調製した炭素膜中のほう素と窒素の存在によるナノ空間

Nanospace due to the presence of boron and nitrogen in carbon films prepared from polyimide.

著者 (6件)： KONNO H (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  SHIBA K (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  TACHIKAWA H (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  NAKAHASHI T (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  OKA H (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  INAGAKI M (Aichi Inst. Technol., Toyota, JPN)
資料名： Synthetic Metals  (Synthetic Metals)
巻： 125  号： 2  ページ： 189-196  発行年： 2002年 
JST資料番号： C0123B  ISSN： 0379-6779  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ほう素の混入ありなしのポリイミド膜(PI-SB、PI)を、2...

シソーラス用語： *ホウ素 ,...

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分類 (3件)： 熱処理技術  (WC03020T) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (6件)： ポリイミド ,  調製 ,  炭素膜 ,  ほう素 ,  窒素 ,  ナノ空間