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J-GLOBAL ID：200902182482108477   整理番号：02A0014920

将来のCMOS技術のためのメタルゲートの仕事関数調整

Metal Gate Work Function Adjustment for Future CMOS Technology.

著者 (5件)： LU Q (Univ. California, CA, USA) ,  LIN R (Univ. California, CA, USA) ,  RANADE P (Univ. California, CA, USA) ,  KING T-J (Univ. California, CA, USA) ,  HU C (Univ. California, CA, USA)
資料名： Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology  (Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology)
巻： 2001  ページ： 45-46  発行年： 2001年 
JST資料番号： A0035B  ISSN： 0743-1562  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリシリコンがMOSFETのゲート材料として長く使われてきた...

シソーラス用語： *CMOS構造 ,...
準シソーラス用語： メタルゲート ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (3件)： CMOS技術 ,  メタルゲート ,  仕事関数