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J-GLOBAL ID：200902182602875540   整理番号：98A0643855

ゾル-ゲル法によって調製したシリカ微粒子とモノリシックゲルの構造と生成過程

Structure and formation process of silica microparticles and monolithic gels prepared by the sol-gel method.

著者 (4件)： KURUMADA K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKABAYASHI H (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MURATAKI T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TANIGAKI M (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 139  号： 2  ページ： 163-170  発行年： 1998年08月10日 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 触媒としてNH₃を用いたオルトけい酸テ...

シソーラス用語： *懸濁液 ,...
準シソーラス用語： *シリカ ,...

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分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  応用物理化学的操作・装置  (XE03000E)

物質索引 (1件)： テトラエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： ゾル-ゲル法 ,  調製 ,  シリカ微粒子 ,  ゲル ,  過程