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J-GLOBAL ID：200902183254213399   整理番号：98A0617711

集束イオンビームミリングのヘテロ界面を含む工業材料の断面TEM用試料調製への応用

Application of focused ion beam milling to cross-sectional TEM specimen preparation of industrial materials including heterointerfaces.

著者 (5件)： KURODA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TAKAHASHI M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  KATO T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SAKA H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TSUJI S (IBM Japan, Kanagawa, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 319  号： 1/2  ページ： 92-96  発行年： 1998年04月29日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近開発された標記FIBミリング法(Kirkら(Inst.P...

シソーラス用語： *顕微鏡試料 ,...
準シソーラス用語： TEM【電顕】 ,...

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分類 (2件)： 顕微鏡法  (BK01040E) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (7件)： 集束イオンビーム ,  ミリング ,  ヘテロ界面 ,  工業材料 ,  断面TEM ,  試料調製 ,  応用