文献

J-GLOBAL ID：200902183357622106   整理番号：02A0493934

エピタキシャル膜Fe₃O₄を用いたスピンに依存するトンネル接合の作製と磁気抵抗特性

Fabrication and Magnetoresistance Properties of Spin-Dependent Tunnel Junctions Using an Epitaxial Fe₃O₄ Film.

著者 (8件)： MATSUDA H (Nara Inst. Sci. and Technol., Nara, JPN) ,  TAKEUCHI M (Nara Inst. Sci. and Technol., Nara, JPN) ,  ADACHI H (Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN) ,  HIRAMOTO M (Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN) ,  MATSUKAWA N (Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN) ,  ODAGAWA A (Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN) ,  SETSUNE K (Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN) ,  SAKAKIMA H (Nara Inst. Sci. and Technol., Nara, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 41  号： 4A  ページ： L387-L390  発行年： 2002年04月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高品質のエピタキシャルFe₃O<sub...

シソーラス用語： スピン分極 ,...
準シソーラス用語： ハーフメタル ,...

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分類 (1件)： その他の接合  (BM03088W)

引用文献 (16件)：

• 1) M. Julliere: Phys. Lett. 54A (1975) 225.
• 2) A. Gupta and J. Z. Sun: J. Magn. & Magn. Mater. <B>200</B> (1999) 24.
• 3) R. J. Soulen Jr., J. M. Byers, M. S. Osofsky, B. Nadgorny, T. Ambrose, S. F. Cheng, P. R. Broussard, C. T. Tanaka, J. Nowak, J. S. Moodera, A. Berry and J. M. D. Coey: Science 282 (1998) 85.
• 4) A. Yanase and L. Siratori: J. Phys. Soc. Jpn. 53 (1984) 312.
• 5) J. O'Donnel, A. E. Andrus, S. Oh, E. V. Colla and J. N. Eckstein: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 1914.

タイトルに関連する用語 (6件)： エピタキシャル膜 ,  スピン ,  トンネル接合 ,  作製 ,  磁気 ,  抵抗特性